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PlasmaPro 80 PECVD 参考价：面议
PlasmaPro 80是一种结构紧凑且使用方便的小型直开式系统，可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置，便于使用，且能确保工艺性能。直开式设计可实现快...
PlasmaPro 800 PECVD 参考价：面议
The PlasmaPro 800 offe a flexible solution for Plasma Enhanced Chemical Vapour D...
PlasmaPro 100 PECVD 参考价：面议
设计PECVD工艺模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、应力、电学特性和湿法化学刻蚀速率的前提下，生产均匀性好且沉积速率高的薄膜。询价 增加到询价列表 在询价...
PlasmaPro 1000 参考价：面议
大面积刻蚀与沉积的量产型解决方案询价 增加到询价列表 在询价列表中查看此产品
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